S cílem usnadnit uživatelům používat naše webové stránky využíváme cookies. Používáním našich stránek souhlasíte s ukládáním souborů cookie na vašem počítači / zařízení. Nastavení cookies můžete změnit v nastavení vašeho prohlížeče.

Podle zákona o evidenci tržeb je prodávající povinen vystavit kupujícímu účtenku. Zároveň je povinen zaevidovat přijatou tržbu u správce daně online; v případě technického výpadku pak nejpozději do 48 hodin.

************************************

K mimosoudnímu řešení spotřebitelských sporů z kupní smlouvy je příslušná Česká obchodní inspekce, se sídlem Štěpánská 567/15, 120 00 Praha 2, IČ: 00020869, www.coi.cz.


Úvod »Kyslíková kosmetika Faberlic» Pleťová gomáž Kyslíkové dýchání


        

Pleťová gomáž Kyslíkové dýchání

Faberlic Oxiology

img

 

Dostupnost: IHNED
Číslo produktu: 0271
Výrobce: FABERLIC
běžná cena 159,00 Kč (5,82 €)
naše cena:
125,00 Kč (4,57 €) ( Nejsme plátci DPH )

do košíku:
  ks  

Čistící gomáž na obličej Oxiology šetrně odstraňuje odumřelé buňky a normalizuje činnost mazových žláz, odstraňuje mastný lesk a matuje pokožku.

Objem 75 ml

Složení: Aqua, Cocamidopropyl Betaine, Sodium Laureth Sulfate, Acrylates Copolymer, Polyethylene, Cocamide DEA, Butylene Glycol, Sodium Lactate, Triethanolamine, PEG-7 Glyceryl Cocoate, Chlorella Vulgaris Extract, Glycolic Acid, Lactic Acid, Polyvinyl Alcohol, Heptapeptide-15 Palmitate, Cellulose Acetate, Poloxamer 188, Plankton Extract, Epilobium Angustifolium Flower/Leaf/Stem Extract, Perfluorodecalin, Poloxamer 188, Perfluoropolymethylisopropyl Ether, Ethoxydiglycol, Lecithin, Turmerone,Tetrahydrodiferuloylmethane, Poloxamer 188, Arginine, Dipotassium Glycyrrhizate, Menthyl Lactate, Allantoin, Styrene/Acrylates Copolymer, Disodium EDTA, Sodium Metabisulfite, Ethylhexylglycerin, Phenoxyethanol, Propylene Glycol, Diazolidinyl Urea, Methylparaben, Propylparaben, Parfum, Butylphenyl Methylpropional, CI 19140, CI 42090.

NÁZORY A DOTAZY NÁVŠTĚVNÍKŮ

Nebyl zatím přidán žádný názor. Přidejte svůj názor nebo dotaz jako první.

ZWI2NmV